立式磁控,连续式磁控溅射,In line sputter,线性磁控溅射,生产型磁控溅射系统
手动磁控溅射系统,手动电子束蒸发系统,手动热蒸发系统,教学用PVD系统,单靶磁控溅射系统
磁控溅射靶枪直流电源,直流电源,Model: GS
旋转阴极,Racical Sputtering,筒式磁控溅射靶枪
磁控溅射靶枪脉冲直流电源,脉冲直流电源,直流脉冲电源,Model: SD
共溅射式磁控溅射系统,支持2-6只靶枪,2-6寸样品,适合微米以下厚度的薄膜制备,金属薄膜,半导体薄膜,氧化物薄膜,合金薄膜,多组分薄膜均可制备。
超高真空溅镀,UHV Sputtering,兼容UHV E-Beam
多片式磁控溅射镀膜系统,Magnetron sputtering deposition,sputtering
电话:0755-28485351
邮箱:info@hightrendtech.com
地址: 深圳市龙岗区坂田街道坂田社区坂雪岗大道3010号3层352室