手动镀膜系统

手动磁控溅射系统适用于本科生教学，研究生科研训练，也可以应用于科研工作。该款设备适用于磁控溅射，也可以装配电子束蒸发，热蒸发源等，用户可根据需求来选择配备。

技术参数：

1 本底真空：10^-7 Torr；

2 单基片设计，尺寸可定制；

3 基片可旋转并加热：300℃/500℃/800℃；

4 溅射：1-3支磁控溅射靶枪，可共溅射；

5 电子束蒸发：4-6坩埚

6 热蒸发：最多6蒸发源，包括有机物蒸发源；

7 可连接手套箱