低压化学气相沉积(Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPVD)是指在较低气压下环境进行薄膜沉积,可进行大面积小批量样品沉积。
技术参数:
1 基片尺寸可定制,最大可达10 英寸;
2 最高加热温度 1700 ℃,单温区或者多温区可选;
3 最多可配置6路工艺气体;
4 配备油泵或者干泵,可选配分子泵;
5 样品水平,垂直两种配置模式;
6 可小批量量产;
应用领域:
LPCVD
退火
扩散
氧化
电话:0755-28485351
邮箱:info@hightrendtech.com
地址: 深圳市龙岗区坂田街道坂田社区坂雪岗大道3010号3层352室