低压化学气相沉积（LPCVD）

低压化学气相沉积(Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPVD)是指在较低气压下环境进行薄膜沉积，可进行大面积小批量样品沉积。

技术参数：

1 基片尺寸可定制，最大可达10 英寸；

2 最高加热温度 1700 ℃，单温区或者多温区可选；

3 最多可配置6路工艺气体；

4 配备油泵或者干泵，可选配分子泵；

5 样品水平，垂直两种配置模式；

6 可小批量量产；

应用领域：

LPCVD

退火

扩散

氧化

产品彩页下载