热丝辅助化学气相沉积（HWCVD／HW-PECVD）

热丝辅助化学气相沉积(Hot Wire Assisted Chemical Vapor Deposition, HWCVD)是指在加热丝辅助的条件下进行薄膜化学气相沉积，适合做高温的结晶材料，加热丝辅助的同时还可以利用等离子体增强线圈进一步辅助，从而提高制备出来的薄膜的晶体取向性。

技术参数：

1 基片尺寸可定制；
2 最高加热温度 2000℃；
3 样品台加热温度500℃；
4 ICP等离子体增强可选；