超高真空剥离工艺镀膜设备

设备特点：

适用于最大6英寸晶圆，并向下兼容4英寸、2英寸晶圆以及不规则碎片
6英寸样品范围内薄膜厚度均匀性优于± 3%
镀膜腔极限真空度优于5x10-9 Torr
样品水冷功能

工作原理:

超高真空剥离工艺是一种基于物理气相沉积 (PVD)技术的专门工艺设备,它在真空下利用电子束直接加热蒸发材料(通常是颗粒)，并将蒸发的材料输送到基板上形成一个薄膜。样品台需要具备特殊的水冷功能，确保在工艺过程中衬底保持在较低温度，不会导致光刻胶的碳化，从而顺利进行后续的光刻胶剥离工艺。

腔体设计:

腔体材质：SUS304L不锈钢

腔体尺寸：约580 (D) mm × 900 (H) mm
CF100真空观察窗（带独立挡板）× 2
CF200维护口 × 2，一上一下可转接成O-ring ISO 160快开门，方便换材料及QCM；
O-ring ISO 160快开门 × 2
腔体烘烤夹克 150℃ × 1；

镀膜T/S距离≥ 600 mm；

电子枪系统:

Telemark 的电子枪
蒸镀源型式:坩锅
电源供应：6 kW
6个坩锅选择
坩锅容量15cc
发射电流调制稳定性±0.5%
高压线性调节范围6 to 8 kV
电流短路于100 毫秒内恢复
最大电流750 mA

快速进样腔:

腔体尺寸：约300 (D) mm × 250 (H) mm；

腔体材质：Al 6061；
上开式腔门 × 1；
真空观察窗 × 1；

自动样品传输杆 x 1;

控制系统:

控制系统是直觉式图形作业系统，提供了大量的功能，建立客户制程应用程序。真空系统软件提供了分权管理，过程控制，数据的基础环节，远程监控与阀门联锁装置。同时软件包括图表和图形控制为您显示来自数据采集、装置采集的波形。

包含项目：
接口管理
自动过程控制
数据记录和历史搜索
多层镀膜设定
趋势绘图
安全联锁装置和警报