语言选择: 中文版line英文版

蒸发镀膜

  • EBPVD设备
  • EBPVD设备
  • EBPVD设备
  • EBPVD设备
  • EBPVD设备
  • EBPVD设备
  • EBPVD设备
EBPVD设备EBPVD设备EBPVD设备EBPVD设备EBPVD设备EBPVD设备EBPVD设备

EBPVD设备

  • EBPVD设备
  • 小批产型EBPVD设备
  • 科研型EBPVD设备
  • 产品描述:EBPVD设备,科研型EBPVD设备,小批产型EBPVD设备
  • 在线订购

EBPVD设备介绍

一、科研型EBPVD设备

应用场景

占地小,适合科研院所及高校进行EBPVD涂层工艺研究基体温度稳定可控,可精准控制不同微观组织形态多坩锅情况下可进行切换进行不同材料的涂层沉积适用于航空领域和光电领域的薄膜类沉积。

技术参数

电子枪功率:15kW100kW可选)

电子枪数量:1

主轴数量:1个(2个可选)

沉积面积:20 cm X 20 cm

坩锅数量:1个(多个可选)

靶材装载:200-250 mm

加热模式:石墨加热(电子枪加热可选)

旋转模式:自转(可偏转)

占地面积:20 m²

单腔室科研型设备 双腔室双靶材科研型设备

二、小批产型EBPVD设备

应用场景

采用大功率电子枪,沉积视窗面积满足航空发动机涡轮叶片的热障涂层沉积制备需求零件沉积具备自转和偏摆多自由度,可应对叶身和缘板的共沉积需求可采用石墨+电子枪复合加热,提高生产效率在配备双主轴的情况下,可达到Smart Coater的同等生产效率和沉积效果

技术参数

电子枪功率:100kW150kW可选)

电子枪数量:1

主轴数量:1个(2个可选)

沉积面积:40 cm X 40 cm

坩锅数量:1个(2个可选,分步沉积)

靶材装载:750 mm

加热模式:石墨加热(电子枪加热可选)

多轴模式:自转+摆臂

占地面积:50 m²

电子枪参数

电子枪类型:直热式电子枪

电子枪功率:0-100KW/单枪(可选配升级功率)

阴极连续工作时长:>100h

加速电压:10KV-30KV可调

最小光斑尺寸:直径10mm

扫描频率:0-100Hz

聚焦电流:0-2A

最低工作真空:5E10-1Pa

三腔室设备

在装载室配有电子枪辅助加热,更快的提高零件的预热效率,提高零件的生产效率,双主轴设计可以进行不间断生产,靶材装载量的提高有助于提升每日生产效率

多轴旋转机构

具有稳定的三工位多轴旋转机构,能够更好的适配叶片叶身和缘板的沉积结合强度和微观组织要求。对于导向叶片的上下缘板也可同时进行沉积,提升零件的涂层质量。

上一个:超高真空剥离工艺镀膜设备没有下一个