本公司新到一批二手的SUSS光刻机,机台成色新(8-9成新),状态好,价格合适,售后服务完善。欢迎垂询!
SUSS MICROTEC LITHOGRAPHY GMBH的型号如下:
实验室及小批量生产用小型 光刻机平台
苏斯公司的 MA/BA 4 代系列是最新一代的半自动光刻和键合对准机,并引进了新的平台系统。新平台主要是配置不同。它由标准款 MA/BA 4 代与用于先进高端工艺的扩展 MA/BA 4 代专业款组成。
高精度产生最好的工艺成果
MA/BA 4 代系列高度自动化,工艺成果更优异。恒量模式、自动控制曝光时间、自动对准等功能为工业参数优化提供了更好的支持。此外,MA/BA 4 代还配置了高质量的光学系统 MO Exposure Optics,曝光条件更优异。先进的机制使校准精度更高。采用上、下面显微镜单元(TSA和BSA)设计方式,不再像TSA显微镜那样需要大距离移动,从而避免了震动。
操作舒适性
配方编辑、数据记录功能,以及可分配使用权限,减轻了操作员的工作负担,同时减少了错误源。MA/BA 4 代平台还采用了高端的数码显微镜和摄像系统,可从显示屏上显示更高质量的图像,视野更大,从而使校准工作更为便捷。
MA/BA 4 代系列可选配节能 LED 灯装置,可大大降低运营及维护成本,同时提供更好的环境保护及劳动保护。相比,水银蒸汽灯很昂贵,一旦废旧,需要作为特殊垃圾处理。该设备具有更好的安全防护设施,包括紫外照射防护、安全锁、防夹装置等,可满足更高的安全要求。
晶圆与晶圆之间对准、熔接键合、压印光刻等都是可选配加装的其他功能
设备功能简介:
SUSS MA8光刻机可实现双面对准和接触式曝光功能。
主机由计算机进行工艺参数设定,具有基于Windows操作系统的图形化控制软件。软件具有工艺编程、设备控制、硬件自我故障诊断功能,工艺操作方便快捷。
曝光光源为汞灯光源,波长350-450nm,支持恒定光强和恒定功率模式曝光。
配置消衍射及微镜式光学系统,可在同一设备上实现“高分辨率”和“大景深”两种模式曝光,并可随时切换,分辨率优于1.5μm;曝光模式可支持硬接触、软接触、接近式和真空接触。
该设备对准有手动对准、计算机辅助对准、全自动对准三种模式。正面对准显微镜支持高达400μm的大景深光刻对准技术,背面对准显微镜为X-Y方向全自动控制分离视场显微镜。
对准台具有全自动非接触式芯片厚度补偿系统,可全自动完成芯片厚度补偿。
设备性能指标:
1、载片尺寸:8",6",4",2"及碎片;
2、最小分辨率:优于1.5μm(光刻胶厚度1微米);
3、正面对准精度优于±0.5μm;背面对准精度优于±1.0μm;
4、光强均匀度:不高于±4%@200mm圆片;
5、曝光模式:支持硬接触、软接触、接近和真空等模式;
6、接近式曝光方式,可调节范围至少0-300μm;
7、曝光汞灯电源:支持恒定光强和恒定功率模式曝光。
电话:0755-28485351
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