量产型原子层沉积

特殊的腔体设计和工艺设计，可以使得ALD技术应用于工业量产，并且可以最大程度提高镀膜效率。矽碁可根据用户的需求定制设备。

技术参数：

1 不锈钢腔体，双层加热设计；

2 等离子体增强模块集成于腔体上盖；

3 进口高速ALD隔膜阀；

4 基片尺寸可以定制；

5 基片最高加热400℃；

6 最多可提供6路前驱物和6路工艺气体；

7 气路全金属密封，并可加热至120℃；

8 可提供前驱体钢瓶加热或冷却；

9 可全自动控制工艺过程，同时也可以手动操作。

10 量产型设计，可以全自动化

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